PD Dr. Klaus Stöwe

                

Gerätepool

   
   
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  Eigene Geräte

 

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UHV-Bedampfungsapparatur mit:

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3 Elektronenstrahlverdampfern

(EFM 3 der Fa. Focus) 

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Mikrowellenionenquelle (Fa. Tectra)

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Quarzmikrowaage (Fa. Tectra)

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Quadrupol-Massenspektrometer

        (Fa. Pfeiffer)

UHV-Bedampfungskammer

 

 

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UHV-Reaktionskammer (Eigenbau Stöwe) mit: 

 

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Elektronenstrahlheizung

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Strom- und Hochspannungsversorgung 

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Beryllium-Dom
für Reflektometriemessungen am Diffraktometer MZVI (Fa Seifert)

 UHV-Reaktionskammer
 

 

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Lichtbogenschweißofen mit HF-Piezozündung (Eigenbau Stöwe)

 

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zum Aufschmelzen von metallischen Proben 

 

        Lichtbogenschweißofen   

 

 

 
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Hochdruckautoklav für Solvothermalsynthesen (von der DFG gefördertes Projekt)

 

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zur Ammonothermalsynthese von Alkalimetallchalkogeniden bei Drücken bis 4000 bar und Temperaturen bis 500°C (zur Zeit umgebaut für Hydrierungen im DFG-SPP 1166 "Lanthanoidenspezifische Funktionalitäten in Molekül und Material")

 

 

          HD-Stand     

 

 

 
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Handschuhbox (Fa. Braun)

 

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zum Arbeiten unter Argon-Schutzgasatmosphäre

 

 

               

Zur Mitbenutzung

An dieser Stelle möchte ich besonders Herrn Prof. H. P. Beck für seine Unterstützung danken. 

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Vier-Kreis-Diffraktometer mit 4fach-Planmonochromator (Typ MZ VI, Fa. Seifert) für Reflektometriemessungen mit UHV-Kammer

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Vier-Kreis-Einkristalldiffraktometer mit Mo- und Cu-Röhre, Graphitplanmonochromator und LN2-Blasekühlung (Typ P4, Fa Siemens)

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Vier-Kreis-Diffraktometer mit OED (Fa. Braun) für Kapillar- und Hochdruckmessungen (Typ MZ IV, Fa. Seifert)

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Hochdruckdiamantstempelzellen bis 10 GPa inklusive Erosionsanlage zum Bohren von Gaskets und Druckmessplatz nach der Rubinmethode (Fa. Ahsbahs)

Mein Dank gilt ebenfalls Herrn Prof. S. Hüfner und allen anderen, die mir ihre Geräte zur Verfügung gestellt oder auch persönlich Hilfe geleistet haben.

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VG ESCALAB MKII mit Möglichkeit zur Disposition von bis zu vier verschiedenen Substanzen bestehend aus:
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Elektronenstrahlverdampfer

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in-situ Charakterisierungsmöglichkeit: LEED, EELS, ARUPS, XPD

 

 
Stand: 11.08.2005                   

Bearbeitung: PD Dr. Klaus Stöwe